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當(dāng)前位置:首頁(yè)產(chǎn)品中心精密加工光刻技術(shù)nanoArch S130光刻技術(shù)

光刻技術(shù)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

nanoArch S130 2μm高精度微納3D打印系統(tǒng)基于BMF摩方的技術(shù)?面投影微立體光刻技術(shù)(PμSL)構(gòu)建,并融入了摩方自主開(kāi)發(fā)的多項(xiàng)技術(shù)。

產(chǎn)品型號(hào):nanoArch S130
更新時(shí)間:2024-09-18
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
訪問(wèn)量:1843

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品牌其他品牌應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,食品,生物產(chǎn)業(yè),電子,制藥
光學(xué)精度2μm打印材料光敏樹(shù)脂
打印層厚5-20μm最大打印尺寸50mm(L)×50mm(W)×10mm(H)
光源UV?LED(405nm)

一、3D光刻技術(shù)介紹

摩方PµSL是一種微米級(jí)精度的3D光刻技術(shù),這一技術(shù)利用液態(tài)樹(shù)脂在UV光照下的光聚合作用,使用滾刀快 速涂層技術(shù)大大降低每層打印的時(shí)間,并通過(guò)打印平臺(tái)三維移動(dòng)逐層累積成型制作出復(fù)雜三維器件。


在三維復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納加工領(lǐng)域,BMF Material團(tuán)隊(duì)擁有超過(guò)二十年的科研經(jīng)驗(yàn),針對(duì)客戶在項(xiàng)目研究中可能出現(xiàn)的工藝和材料難題,我們將持續(xù)提供簡(jiǎn)易高效的技術(shù)支持方案。



二、3D光刻技術(shù)功能介紹

*的薄膜滾刀涂層技術(shù)允許更高的打印速度,使打印速度最高提升10倍以上;

能夠處理高達(dá)20000cps的高粘度樹(shù)脂,從而生產(chǎn)出耐候性更強(qiáng)、功能更強(qiáng)大的零部件;

能夠打印工業(yè)級(jí)復(fù)合聚合物和陶瓷光敏材料,包括與巴斯夫合作開(kāi)發(fā)的全新功能工程材料。


三、微納3D打印系統(tǒng)打印材料

通用型

丙烯酸類(lèi)光敏樹(shù)脂,比如HDDA,PEGDA等。


工業(yè)級(jí)復(fù)合聚合物,例如高粘度樹(shù)脂、陶瓷漿料等。


個(gè)性化

高強(qiáng)度硬性樹(shù)脂、納米顆粒摻雜樹(shù)脂、生物醫(yī)用樹(shù)脂等。


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